| 摘要 |
Dans les modes de réalisation particuliers décrits dans les spécifications, une tête à jet d'encre à transducteur à couche mince est préparée par oxydation d'une surface d'une tranche de silicium (10) afin de produire une couche diélectrique (11), par formation d'électrodes (17) sur la couche selon des techniques de traitement à photoréserve, par dépôt d'une ou de plusieurs couches en matière PZT afin de produire une couche piézoélectrique mince (18) d'une épaisseur située dans la plage comprise entre 20 et 25 microns, par formation d'une autre configuration d'électrodes (24) sur la surface de la couche PZT selon des techniques de traitement à photoréserve, et par gravure sélective du substrat en silicium dans la région des électrodes afin de produire une chambre d'encre (30). Ensuite, une plaque ajourée est fixée au substrat afin de renfermer les chambres d'encre et de produire un orifice d'encre pour chacune des chambres. On obtient ainsi une tête à jet d'encre dotée de chambres d'une longueur de 3,34 mm et d'une largeur de 0,17 mm pour une profondeur de 0,15 mm avec des orifices éloignés de 0,305 mm. |
