| 主权项 |
1﹒一种电解电极基体,其包含一导电性基体及一形成在该导电性基体表面之氧化物层,该氧化物层之厚度为10-200m,该氧化物层内之氧化物包含式为RO2─x之非化学计量组成物(R为选自由钛、钽、铌所组成族群之一金属元素,且0<X<1。2﹒如申请专利范围第1项之电解电极基体,其中X较佳是0﹒1<X<0﹒5。3﹒如申请专利范围第1项之电解电极基体,其中氧化物层之厚度较佳是50-100m。4﹒如申请专利范围第1项之电解电极基体,其更包含介于该导电性基体及该氧化物层间之黏合剂层,该黏合剂层包含一至少一包含于内或构成导电性基体之金属与至少一包含于氧化物层内之金属之混合氧化物者。5﹒如申请专利范围第4项之电解电极基体,其中,黏合剂层之厚度最佳是0﹒1-1m。6﹒如申请专利范围第4项之电解电极基体,其中黏合剂层之形成系用含有硝酸铁、四气化钛及五氯化钽(莫耳比为1:8:1)之丁醇溶液涂布氧化物层表面,乾燥涂布物,然后在550℃下烧10分钟。7﹒如申请专利范围第4项之电解电极基体,其中黏合剂层之形成保用含有钛之氯化物及铌之氯化物(莫耳比为9:1)之稀释盐酸涂布此基体之表面,乾燥涂布物,然后在450℃下于气流中烧10分钟。8﹒一种电解电极,其包含一电极基体、一形成在电极基体上并含有钛、钽及铂中至少一种之中间薄层及一覆盖中间薄层之电极活性材料层,该电极基体包含一导电性基体,一形成在导电性基体之表面上具有厚度为10-200m之氧化物层,其中,氧化物层内之氧化物包含式为RO2─x之非化学计量组成物(R为选自由钛、钽、铌所组成族群之一金属元素,且0<X<1)。9﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中X较佳是0﹒1<X<0﹒5。10﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中,氧化物层之厚度较佳是50-100m。11﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中,该中间薄层之形成系用合铂、钛及钽(莫耳比为1:8:1)之盐酸涂布此电极基体之表面,在530℃下于空气中加热涂布过电极基体10分钟,以热解涂布物,藉以形成一中间薄层。12﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中,该中间薄层之形成保用含有钛、钽及铂(莫耳比为25:25:25)之盐酸涂布如此所得电极基体之表面,在空气中乾燥涂布物,然后烧之,在530℃下于蒙浮炉内空气进给15分钟。13﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中,该电极活性材料层之形成系用含铱及铂(莫耳比为6:4)之盐酸涂布中间薄层之表面,在530℃下于空气中加热涂布物10分钟以热解涂布物,将此涂布热解程序重复,次,以形成一包含混合氧化物之电极活性材料层。14﹒如申请专利范围第8项之电解电极,其中,该电极活性材料层之形成系用含有铱与钽(莫耳比为70:30之盐酸涂布该中间薄层之表面,乾燥并烧涂布物。 |
