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"COMPOSIçõES SENSìVEIS A RADIAçãO, CONTENDO SULFONATOS POLIMéRICOS GERADORES DE áCIDOS E SEU USO EM REPRODUçãO DE IMAGENS". A invenção refere-se a uma composição de estampagem sensível à radiação, compreendendo: (1) pelo menos um composto gerador de ácido selecionado entre compostos da fórmula (I) e fórmula (II), onde: R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 4~, R~ 5~ e R~ 6~ são selecionados independentemente no grupo que consiste em hidrogênio, nitro, hidroxila, carbonila, halogênio, ciano, grupos alquila não-substituídos e substituídos, grupos cicloalquila não-substituídos e substituídos; grupos alcóxi não-substituídos e substituídos; e grupos arila não-substituídos e substituídos; onde: X^ +^ é um íon ónio selecionado do grupo que consiste em diazónio, iodónio, sulfónio, fosfónio, bromónio, clorónio, oxissulfoxónio, oxissulfónio, sulfoxónio, selênio, telúrio e arsênio; e n é um número inteiro entre 4 e 100; (2) pelo menos um agente reticulante reticulável por um ácido; (3) pelo menos um composto polimérico capaz de reagir com o agente reticulante; e (4) pelo menos um composto absorvente de infravermelho.
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