发明名称 |
磁记录介质及其制造方法、以及磁记录再生装置 |
摘要 |
本发明提供一种磁记录介质及其制造方法、以及具备这种磁记录介质或利用这种制造方法制造的磁记录介质的磁记录再生装置,所述磁记录介质在圆盘状的非磁性基板上至少具备垂直磁性层,其特征在于,上述垂直磁性层具有如下构造,即,通过实施纹理化处理,在形成有具有圆周方向成分的多个沟槽的形成面上形成FePt或CoPt纳米粒子排列体。 |
申请公布号 |
CN102800332B |
申请公布日期 |
2017.04.12 |
申请号 |
CN201210225470.9 |
申请日期 |
2012.05.22 |
申请人 |
昭和电工株式会社;学校法人早稻田大学 |
发明人 |
逢坂哲弥;杉山敦史;蜂巢琢磨;茂智雄;福岛正人;山根明;坂胁彰 |
分类号 |
G11B5/66(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/66(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
段承恩;田欣 |
主权项 |
一种磁记录介质,是在圆盘状的非磁性基板上至少具备垂直磁性层的磁记录介质,其特征在于,所述垂直磁性层具有如下构造:在通过对非磁性基板的表面实施圆周方向的纹理化处理而形成了具有圆周方向成分的多个细微沟槽的形成面上,形成有FePt或CoPt纳米粒子在所述沟槽和所述沟槽的周围分散而成的FePt或CoPt纳米粒子排列体。 |
地址 |
日本东京都 |