发明名称 |
一种高硬度杀菌PVD膜的制备方法 |
摘要 |
本发明为一种高硬度防菌PVD膜的制备方法,使用W‑Ti合金靶材在工件上沉积第一层杀菌膜,W的硬度强,并且也有极强的杀菌能力,Ti和W的结合利于杀菌膜沉积时候的附着力,能够提高PVD膜的性能,在W‑Ti杀菌膜上沉积第二层杀菌膜为W‑Ti‑Ag,在第二层杀菌膜中加入纳米银,可以增强杀菌膜的杀菌效果,同时W的高硬度能够保护纳米银;因为W本身具有杀菌能力,因此只需在杀菌膜的最外层加入少许纳米银,而W的市场价格比纳米银便宜,因此以上技术方案中的杀菌膜可以降低杀菌膜生产成本。 |
申请公布号 |
CN106555162A |
申请公布日期 |
2017.04.05 |
申请号 |
CN201610904863.0 |
申请日期 |
2016.10.18 |
申请人 |
麦福枝;麦世枝 |
发明人 |
麦福枝;麦世枝 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 |
代理人 |
肖平安 |
主权项 |
一种高硬度PVD杀菌膜的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)工件预处理:将工件表面油污洗净并脱去工件表面氧化膜,随后将工件放入真空炉中;2)工件清洗:真空炉中抽真空,升温至120~150℃,充入Ar,启动Ti弧靶,对工件进行离子清洗;3)基础膜:关闭Ti弧靶,启动Ti溅射靶,继续充入Ar,加载‑70~‑90V偏压,在工件表面沉积钛膜基础膜;4)第一层杀菌膜:关闭Ti溅射靶,启动W‑Ti合金弧靶,充入Ar,加载‑70~‑90V偏压,钛膜上沉积第一层杀菌膜;5)第二层杀菌膜:持续启动W‑Ti合金弧靶,同时启动纳米银溅射靶,持续时间3~5分钟,沉积第二层杀菌膜。 |
地址 |
中国香港沙田第一城35座6D |