| 摘要 |
従来のガスレーザ発振装置は、レーザガスを導入する量が通常時よりも多くなると、全反射鏡や部分反射鏡付近での乱流が発生し、放電が不安定となり、レーザビームの出力が不安定になる。本開示のガスレーザ発振装置は、レーザ発振部と、第１のレーザガス供給口と、レーザガス排出口と、第１のレーザガス導入口と、レーザガス循環経路と、第２のレーザガス導入口とを有する。第１のレーザガス導入口は、全反射鏡および部分反射鏡のうちの一方と第１の放電管との間に設けられ、レーザ発振部にレーザガスを導入する。第２のレーザガス導入口は、レーザガス循環経路に設けられ、レーザガス循環経路にレーザガスを導入する。レーザガス導入機構は、第１のレーザガス導入口および第２のレーザガス導入口に接続されている。 |
