一种正交错位光纤光栅的刻写装置和刻写方法

摘要

本发明公开一种正交错位光栅的刻写装置和刻写方法，其结构包括：紫外光源、准直聚焦透镜、掩模板、平面镜镜组、分光镜、电机控制系统组成，其中平面镜镜组由第一平面镜、第二平面镜和第三平面镜组成，电机控制系统主要由旋转电机和前进电机组成。本发明可以刻写短周期的布拉格型正交错位光纤光栅和长周期正交错位光纤光栅，利用刻写的正交错位光纤光栅能够产生涡旋光束和对光束的偏振控制。该发明的结构明晰，稳定性高，制作简单。

主权项

一种正交错位光纤光栅的刻写装置，其特征在于：包括：紫外光源(101)、第一准直聚焦透镜(102)、第二准直聚焦透镜(108)、第一掩模板(103)、第二掩模板(109)、分光镜(102)、平面镜组、电机控制系统，其中平面镜组包括第一平面反射镜(106)、第二平面反射镜(107)和第三平面镜(114)，电机控制系统包括旋转电机(110)跟前进电机(111)；紫外光源(101)产生的紫外光，经过分光镜(102)分为两束，一束直接通过第一准直聚焦透镜(103)后，后照射到掩模板(104)上，形成衍射能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写的光纤(105)进行曝光，另一束光经过平面镜组后经第二准直聚焦透镜(108)垂直照射到第二掩模板(109)上，后对光纤(105)在另一位置处进行曝光；所述平面镜组由第一平面反射镜(106)、第二平面反射镜(107)和第三平面镜(114)组成，通过调节三个平面镜使光束通过三个平面镜后对光纤垂直进行曝光，并且两个曝光位置成90°，距离差△z。