发明名称 |
除去対象物の除去方法 |
摘要 |
【課題】下地にダメージを与えることなく、かつ、全ての除去対象物を効率よく除去する方法を提供すること。【解決手段】ドライエッチングのマスク材として使用するレジスト、ドライエッチングの過程で生じる変質層およびデポ膜を、剥離液を用いて除去する除去対象物の除去方法であって、剥離液として第一の剥離液、第二の剥離液および第三の剥離液を用い、第一の剥離液から第二の剥離液、第二の剥離液から第三の剥離液へと、剥離液の組成を連続的に変化させることにより、下地材料にダメージを与えることなく、複数の除去対象物を選択的に除去する方法を提供する。【選択図】図2 |
申请公布号 |
JP2017054969(A) |
申请公布日期 |
2017.03.16 |
申请号 |
JP20150178591 |
申请日期 |
2015.09.10 |
申请人 |
キヤノン株式会社 |
发明人 |
平本 篤司;寺崎 敦則;福本 能之;柬理 亮二;久保田 雅彦 |
分类号 |
H01L21/306;H01L21/027;H01L21/304;H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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