发明名称 |
一种发光二极管芯片及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。包括:在衬底上形成n型Ⅲ族氮化物半导体层、有源层、p型Ⅲ族氮化物半导体层;在p型Ⅲ族氮化物半导体层上形成第一光学反射层;在第一光学反射层上形成n型电极和p型电极;对衬底、n型Ⅲ族氮化物半导体层、有源层、p型Ⅲ族氮化物半导体层、第一光学反射层进行切割,得到若干独立的芯片单元,芯片单元均包括两个n型电极和两个p型电极;将若干芯片单元中的n型电极和p型电极固定在支撑材料上,各个芯片单元的间距大于0;在衬底上、以及芯片单元的侧壁上形成第二光学反射层;将各个芯片单元分成相互独立的两个发光二极管芯片。本发明可以满足背光源的出光要求。 |
申请公布号 |
CN106449619A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201610813163.0 |
申请日期 |
2016.09.09 |
申请人 |
华灿光电(浙江)有限公司 |
发明人 |
吴志浩;杨春艳;王江波;刘榕 |
分类号 |
H01L25/075(2006.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/60(2010.01)I |
主分类号 |
H01L25/075(2006.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
徐立 |
主权项 |
一种发光二极管芯片的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:在衬底上依次形成n型Ⅲ族氮化物半导体层、有源层、p型Ⅲ族氮化物半导体层;在所述p型Ⅲ族氮化物半导体层上形成第一光学反射层;在所述第一光学反射层上形成与所述n型Ⅲ族氮化物半导体层电连接的n型电极、以及与所述p型Ⅲ族氮化物半导体层电连接的p型电极;对所述衬底、所述n型Ⅲ族氮化物半导体层、所述有源层、所述p型Ⅲ族氮化物半导体层、所述第一光学反射层进行切割,得到若干独立的芯片单元,所述芯片单元均包括两个所述n型电极和两个所述p型电极;将若干所述芯片单元中的所述n型电极和所述p型电极固定在支撑材料上,各个所述芯片单元的间距大于0;在所述衬底上、以及所述芯片单元的侧壁上形成第二光学反射层;将各个所述芯片单元分成相互独立的两个发光二极管芯片。 |
地址 |
322000 浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村(浙江四达工具有限公司内) |