发明名称 |
原子層堆積中における化学物質の制御された分離および送出により低欠陥処理を可能にするシステムおよび方法 |
摘要 |
【課題】反応性ガスのガス供給ライン中でオーバーラップ、高圧でガスのオンオフの切り換えによるガスライン中に及び/又は下流のガス分配装置内で圧力過渡現象の低減する方法の提供。【解決手段】ガス送出システムは、第1のガス源と通じる入口を含む第1のバルブ90を含む。第2のバルブ94の第1の入口は、第1のバルブ90の出口と通じ、第2のバルブ94の第2の入口は、第2のガス源と通じ、第3のバルブ98の入口は、第3のガス源と通じる。コネクタ105は、第1のガスチャネル、および第2のガスチャネルを規定するシリンダを含む。シリンダおよび第1のガスチャネルは、共同でシリンダの外側表面と第1のガスチャネルの内側表面との間に流路を規定する。流路は、第3のバルブの出口および第2のガスチャネルの第1の端部と通じる。第3のガスチャネルは、第2のガスチャネル、第2のバルブの出口、および処理チャンバのガス分配装置と通じる。【選択図】図4 |
申请公布号 |
JP2017036493(A) |
申请公布日期 |
2017.02.16 |
申请号 |
JP20160135523 |
申请日期 |
2016.07.08 |
申请人 |
ラム リサーチ コーポレーションLAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
ラメッシュ・チャンドラセカーラン;ジェニファー・オラフリン;サーングルト・サングプルン;シャンカー・スワミナタン;フランク・パスクァーレ;クロエ・バルダッセローニ;エイドリアン・ラボイエ |
分类号 |
C23C16/455;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/455 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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