| 发明名称 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够简化阵列基板的层结构，降低阵列基板的制备难度，进而提高阵列基板的生产良品率。该阵列基板包括衬底基板、位于所述衬底基板之上的薄膜晶体管单元、彩膜和平坦保护层，所述平坦保护层与所述薄膜晶体管单元的漏极电连接，其中，所述平坦保护层导电。 | ||
| 申请公布号 | CN103700674B | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
| 申请号 | CN201310741375.9 | 申请日期 | 2013.12.27 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 齐永莲;舒适;赵明 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板、位于所述衬底基板之上的薄膜晶体管单元、彩膜和平坦保护层，所述平坦保护层与所述薄膜晶体管单元的漏极电连接，其中，所述平坦保护层导电，所述平坦保护层的材质为透明导电树脂；所述平坦保护层位于所述薄膜晶体管的下方；或者，所述薄膜晶体管单元为底栅型薄膜晶体管单元，且所述平坦保护层位于所述薄膜晶体管的上方；所述阵列基板还包括位于所述平坦保护层上方的有机层和导电层，所述平坦保护层与所述导电层配合共同驱动所述有机层发光；所述阵列基板还包括位于所述平坦保护层和所述有机层之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层的材质为光刻胶，所述第二绝缘层设置有开口，所述有机层通过所述开口与所述平坦保护层电连接。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||