| 摘要 |
본 발명은 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 광학 시스템 및 마이크로리소그래피 노광 방법에 관한 것이다. 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 광학 시스템은 복수의 미러 소자(200a, 200b, 200c, ... , 400a, 400b, 400c, ...)를 갖는 적어도 하나의 미러 장치(200, 400) - 이러한 미러 소자는 상기 미러 장치에 의해 반사된 광의 각도 분포를 변경하기 위하여 서로 독립적으로 조절될 수 있음 - ; 및 광 전파 방향으로 상기 미러 장치(200, 400)의 다운스트림에 배열되는 편광 영향 광학 장치(110, 210, 310, 320, 330)를 포함하고, 상기 편광 영향 광학 장치(110, 210, 310, 320, 330)는 적어도 2개의 반사로 상기 장치(110, 210, 310, 320, 330) 상에 입사하는 광 빔을 반사하고, 2개의 반사는 상기 미러 장치(200, 400)에 의해 반사되는 광의 적어도 하나의 각도 분포에 대하여 공통 평면에서 발생하지 않는다. |
