| 摘要 |
본 발명은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 사용하는 신규한 구조의 중합체, 이를 포함하는 반도체 및 디스플레이 제조 공정용 하층막 조성물 및 이를 이용한 반도체 및 디스플레이 제조 공정용 레지스트 패턴의 형성 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 본 발명의 신규 중합체는 최적화된 에치 선택비와 평탄화 특성, 및 우수한 내열성을 동시에 가지고 있으므로, 이를 포함하는 하층막 조성물은 반도체 다층 리소그래피(lithography) 공정에 하드마스크로서 사용될 수 있다. |
