位相シフトマスクおよびその製造方法

摘要

位相シフトマスクの製造方法は、表面およびパターン開口に露出した遮光層（１３）が覆われるとともに、パターン開口に露出したエッチングストッパー層（１２）と位相シフト層（１１）とが、遮光領域では覆われず、位相シフト領域では覆われるように所定の開口パターンを有する第２のマスク（ＲＰ２）を形成する工程を有する。