一种用于实施化学气相沉积过程的设备

摘要

本发明涉及一种用于实施化学气相沉积过程的设备，其中最关键的反应器主体2包括：加热腔51、密封腔52和反应腔53；其中加热腔51中具有加热器13、中空轴7、通气法兰15，其中所述通气法兰15固定在反应器底板23上；其中密封腔52由反应器底板23、加热腔侧壁14、密封腔壁521和密封腔顶板522所围成；其中反应腔53由反应器底板23、密封腔侧壁521、反应腔侧壁531、气流通道上盖10、密封腔顶板522、加热腔顶盖11以及中空轴7上部的外翻平板7‑4所围成，其特征在于，所述加热腔顶盖11能够在所述中空轴7的带动下旋转，且所述加热腔侧壁14能与所述加热腔顶盖11同步旋转。

主权项

一种用于实施化学气相沉积过程的设备，其包括：气体入口管(1)，反应器主体(2)、排气管(3)、排气集室(4)和抽真空口(5)，其中排气管(3)位于反应器主体(2)的外部且一端与排气集室(4)连通，抽真空口(5)设置在排气集室(4)上；其中反应器主体(2)包括：加热腔(51)、包围该加热腔的密封腔(52)和包围该密封腔(52)的反应腔(53)；其中加热腔(51)中具有加热器(13)和贯穿该加热腔设置并穿出到反应器主体(2)外部的中空轴(7)，加热腔(51)由加热腔侧壁(14)、反应器底板(23)以及紧贴设置在该反应器底板上方的通气法兰(15)、加热腔顶盖(11)以及中空轴(7)上部的外翻平板(7‑4)以足以维持该加热腔(51)的气密性的方式所围成；其中所述通气法兰(15)固定在所述反应器底板(23)上；其中密封腔(52)由反应器底板(23)、加热腔侧壁(14)、密封腔侧壁(521)和密封腔顶板(522)所围成；其中反应腔(53)由反应器底板(23)、密封腔侧壁(521)、反应腔侧壁(531)、气流通道上盖(10)、密封腔顶板(522)、加热腔顶盖(11)以及中空轴(7)上部的外翻平板(7‑4)所围成，其中气体入口管(1)穿过所述气流通道上盖(10)与该反应腔(53)连通，加热腔顶盖(11)的上表面具有若干圆形凹槽(12)，该圆形凹槽供安放待被实施化学气相沉积处理的衬底；其中所述圆形凹槽(12)内放置有衬底托盘(17)，该衬底托盘(17)用于支撑待被进行化学气相沉积处理的衬底，该衬底托盘(17)的外缘具有齿轮，该齿轮与中央齿轮(16)相啮合；其中排气管(3)的另一端与所述反应腔(53)连通；所述加热腔顶盖(11)能够在所述中空轴(7)的带动下旋转，且所述加热腔侧壁(14)能与所述加热腔顶盖(11)同步旋转；其特征在于，所述通气法兰(15)的法兰盘上具有密封圈槽(151)、被所述密封圈槽围住的通气槽(152)和位于通气槽内的若干通气孔(153)。