一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法

摘要

本发明涉及电容式触摸屏走线设计，尤其涉及一种化学镀金析出的ITO走线优化设计方法。优化化学镀金析出的ITO走线设计方法，包括ITO玻璃的待镀金部分和不镀金部分，所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线，所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜，之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金；其在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ITO玻璃上的非走线部分设置独立的镀金处理诱导件；所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域；所述独立的镀金处理诱导件为设置在所述ITO玻璃上的独立的ITO图形。本发明镀金结构使镀金更容易析出，且镀金厚度更均匀，电容式触摸屏产品稳定性和传输信号能力更好。

主权项

一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法，包括ITO玻璃的待镀金部分和不镀金部分，所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线，所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜，之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金；其特征在于：在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ITO玻璃上的非走线部分设置独立的镀金处理诱导件；所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域；所述独立的镀金处理诱导件为设置在所述ITO玻璃上的独立的ITO图形。