| 摘要 |
【課題】液浸露光プロセスにおいて、液浸上層膜表面の液浸露光時の後退接触角をより大きくすることができ、かつ現像欠陥の発生を抑制することができると共に、さらに良好な形状のレジストパターンを形成可能な液浸上層膜形成用組成物を提供する。【解決手段】式（１）で表される構造単位を有する重合体（ａ１）を含む重合体成分、及び溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物。式（１）中、Ｒ１は、アルカリ解離性基であり、炭素数１〜２０のフッ素化アルキル基又は炭素数１〜２０のフッ素化アルキルカルボニル基が好ましい。Ａは、−ＣＯ−Ｏ−＊、−Ｏ−、−ＮＲＡ−又は−ＳＯ２−Ｏ−＊である。Ｘは、炭素数１〜２０の２価のフッ素化炭化水素基である。【選択図】なし |
