| 发明名称 | 调节衬底表面反射率的结构及方法、光刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种调节衬底表面反射率的结构及方法、光刻方法，通过在衬底表面增加交错排列的虚拟图形结构，来调节衬底表面反射率，从而可以避免光刻胶光刻时由于衬底表面反射率不相同而造成的光刻胶形貌出现差异、光刻胶出现倒梯形等问题。 | ||
| 申请公布号 | CN106129042A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201610498878.1 | 申请日期 | 2016.06.30 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 朱治国;朱骏;陈力钧 |
| 分类号 | H01L23/544(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/544(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人 | 吴世华;陈慧弘 |
| 主权项 | 一种调节衬底表面反射率的虚拟图形结构，其特征在于，设置于衬底表面的虚拟图形结构，由多个交错排布的子图形构成，从而改变虚拟图形结构所在区域的衬底表面的反射率。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | ||