发明名称 |
处理液供给方法和处理液供给装置 |
摘要 |
本发明提供一种处理液供给方法,可读取的计算机存储介质和处理液供给装置,其通过从过滤器除去微小气泡,抑制过滤器的性能下降。该处理液供给方法向晶片上供给作为处理液的稀释剂,其包括:利用脱气机构对稀释剂进行脱气处理而生成脱气稀释剂的脱气处理液生成步骤;将脱气稀释剂贮存在泵(P1)的贮存室(210)内的处理液贮存步骤;使经由稀释剂供给管(200)与贮存室的下游侧连接的过滤器(201)的下游侧相对于泵的贮存室内的压力成为负压,从而使贮存室内的脱气稀释剂通过过滤器的过滤器通液步骤;和停止从泵的贮存室向过滤器供给稀释剂后,将过滤器的下游侧为负压的状态维持规定的时间的负压维持步骤。 |
申请公布号 |
CN106024579A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201610195709.0 |
申请日期 |
2016.03.31 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
志手英男;木村一彦;汤本知行 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种向基板上供给处理液的处理液供给方法,其特征在于,包括:利用脱气机构对所述处理液进行脱气处理而生成脱气处理液的脱气处理液生成步骤;将所述脱气处理液贮存在容器内的处理液贮存步骤;使经由处理液供给管与所述容器的下游侧连接的过滤器的下游侧相对于所述容器内的压力成为负压,从而使所述容器内的所述脱气处理液通过所述过滤器的过滤器步骤;和在停止从所述容器向所述过滤器供给所述处理液后,将所述过滤器的下游侧为负压的状态维持规定的时间的负压维持步骤。 |
地址 |
日本东京都 |