发明名称 | 核磁共振成像装置以及RF匀场方法 | ||
摘要 | 本发明涉及核磁共振成像装置以及RF匀场方法,核磁共振成像装置具备:发送线圈,其在根据目标函数和制约条件进行RF匀场的运算时,为了一边进行B<sub>1</sub>分布的均匀化一边与每个通道向SAR的贡献对应地进行SAR的减小,具有向被检体分别发送高频的多个通道;以及运算部,其以提高发送线圈所生成的高频磁场分布的均匀度并且减小上述被检体的相对吸收率的方式,进行决定向上述多个通道分别发送的高频的振幅与相位中的至少一个的RF匀场的运算,在该RF匀场方法中,在根据目标函数和制约条件来进行RF匀场的运算时,根据每个通道向SAR的贡献来决定用于设定目标函数的目标函数参数的值。 | ||
申请公布号 | CN106028928A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
申请号 | CN201580010607.0 | 申请日期 | 2015.03.25 |
申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 伊藤公辅 |
分类号 | A61B5/055(2006.01)I | 主分类号 | A61B5/055(2006.01)I |
代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 范胜杰;曹鑫 |
主权项 | 一种核磁共振成像装置,其特征在于,具备:发送线圈,其具有分别向被检体发送高频(RF)的多个通道;RF匀场部,其根据目标函数和制约条件,将向上述多个通道分别发送的高频的振幅与相位中的至少一方决定为高频磁场条件,使得提高上述发送线圈所生成的高频磁场(B<sub>1</sub>)分布的均匀度并且减小上述被检体的比吸收率(SAR);以及高频信号产生器,其根据上述高频磁场条件来产生上述每个通道的上述高频,上述RF匀场部根据向上述比吸收率的贡献来决定用于设定上述目标函数的上述每个通道的目标函数参数的值。 | ||
地址 | 日本东京都 |