发明名称 |
アニールによるII−VI族の半導体材料中の沈殿物を除去するための方法 |
摘要 |
Removing precipitates from a solid II-VI semiconductor material comprises heating the material to a temperature T between the II-VI/VI eutectic temperature and the maximum congruent sublimation temperature of the material, keeping the material at temperature T until the precipitates have been eliminated and cooling the material to room temperature at a rate corresponding to the material's congruent sublimation line. All steps are performed under an inert gas stream. |
申请公布号 |
JP6004601(B2) |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
JP20070231529 |
申请日期 |
2007.09.06 |
申请人 |
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ |
发明人 |
ベルナール・ペリシアリ |
分类号 |
C30B29/48;C30B11/00;C30B33/02 |
主分类号 |
C30B29/48 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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