发明名称 |
基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法 |
摘要 |
本发明一般提供在基体(12)上形成导电氧化物层(14)的方法。在一个具体实施方案中,所述方法可包括在包含镉的溅射气氛用靶(例如包含锡酸镉)在基体(12)上溅射透明导电氧化物层(14)。可在约100℃至约600℃的溅射温度溅镀透明导电氧化物层(14)。本发明也一般提供制备基于碲化镉的薄膜光伏器件(10)的方法。 |
申请公布号 |
CN102208484B |
申请公布日期 |
2016.09.21 |
申请号 |
CN201110089632.6 |
申请日期 |
2011.03.30 |
申请人 |
初星太阳能公司 |
发明人 |
S·D·费尔德曼-皮博迪 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
李进;林森 |
主权项 |
一种在基体上形成导电氧化物层的方法,所述方法包括:在包含镉的溅射气氛用靶(64)在基体(12)上溅镀透明导电氧化物层(14),其中所述靶(64)包含锡酸镉,且其中在100℃至600℃的溅射温度溅镀所述透明导电氧化物层(14),其中所述溅射气氛中所包含的镉由镉气体源提供,且镉占所述溅射气氛的0.1%至25%体积。 |
地址 |
美国科罗拉多州 |