| 发明名称 | 用于形成抗反射结构的叠层转印膜 | ||
| 摘要 | 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。 | ||
| 申请公布号 | CN105917253A | 申请公布日期 | 2016.08.31 |
| 申请号 | CN201580004713.8 | 申请日期 | 2015.01.09 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 迈克尔·本顿·弗里;贾斯廷·P·迈尔;奥勒斯特尔·小本森;特里·O·科利尔;米奇斯瓦夫·H·马祖雷克;埃文·L·施瓦茨;马丁·B·沃尔克 |
| 分类号 | G02B1/118(2015.01)I;B32B37/02(2006.01)I;B32B38/10(2006.01)I;C03C17/30(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/118(2015.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 王静;丁业平 |
| 主权项 | 一种转印膜，包括：载体膜；牺牲模板层，所述牺牲模板层设置在所述载体膜上并且包括抗反射纳米结构模板特征结构；热稳定回填层，所述热稳定回填层具有符合所述抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||