发明名称 |
粉末等离子处理装置 |
摘要 |
公开一种粉末等离子处理装置。粉末等离子处理装置是圆筒形面放电等离子模块的粉末等离子处理装置,所述圆筒形面放电等离子模块的外面为基板型电极层,所述基板型电极层的内面侧具有绝缘层,等离子发生电极位于所述绝缘层上,所述圆筒形面放电等离子模块进行旋转,向所述等离子发生电极和所述基板型电极层施加交流电压时所述等离子发生电极的周围产生等离子,需要进行等离子处理的粉末在所述圆筒形面放电等离子模块内被所述等离子处理。 |
申请公布号 |
CN104519993B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201380032767.6 |
申请日期 |
2013.12.06 |
申请人 |
韩国基础科学支援研究院 |
发明人 |
石东篡;郑熔镐;郑贤永 |
分类号 |
B01J19/08(2006.01)I;B01J2/00(2006.01)I;H05H1/42(2006.01)I |
主分类号 |
B01J19/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种粉末等离子处理装置,是圆筒形面放电等离子模块的粉末等离子处理装置:所述圆筒形面放电等离子模块的外面为基板型电极层,所述基板型电极层的内面侧具有绝缘层,等离子发生电极位于所述绝缘层上,所述圆筒形面放电等离子模块进行旋转,向所述等离子发生电极和所述基板型电极层施加交流电压时所述等离子发生电极的周围产生等离子,需要进行等离子处理的粉末在所述圆筒形面放电等离子模块内被所述等离子处理。 |
地址 |
韩国大田市儒城区 |