发明名称 基板液处理装置和基板液处理方法
摘要 本发明提供一种能够提高基板液处理装置的生产率的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置(1)用于利用处理液来对基板(2)进行液处理,其包括:处理液储存部(3),其用于储存所述处理液;处理液加热部(加热器(18)),其用于对所述处理液进行加热;控制部(8),其用于控制所述处理液加热部;以及温度传感器(21)和浓度传感器(20),其与所述控制部(8)相连接,所述控制部(8)利用所述浓度传感器(20)来测量所述处理液的浓度并利用所述温度传感器(21)来测量所述处理液的温度,并求出与测量出的所述处理液的浓度相对应的沸点,根据该沸点和测量出的所述处理液的温度来对所述处理液加热部的功率进行控制。
申请公布号 CN105742207A 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201510971231.1 申请日期 2015.12.22
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 上村史洋;原大海
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种基板液处理装置,其用于利用处理液来对基板进行液处理,其特征在于,该基板液处理装置包括:处理液储存部,其用于储存所述处理液;处理液加热部,其用于对所述处理液进行加热;控制部,其用于控制所述处理液加热部;以及温度传感器和浓度传感器,其与所述控制部相连接,所述控制部利用所述浓度传感器来测量所述处理液的浓度并利用所述温度传感器来测量所述处理液的温度,并求出与测量出的所述处理液的浓度相对应的沸点,根据该沸点和测量出的所述处理液的温度来对所述处理液加热部的功率进行控制。
地址 日本东京都