发明名称 有機ケイ素化合物、それを用いた薄膜形成用組成物および有機薄膜
摘要 本発明は物性が改善された新規な有機薄膜を形成するための有機ケイ素化合物を提供することを課題とする。本発明の有機ケイ素化合物は、式(I)R−(CH2)n−SiX3(I)(式中、Rは炭素数1〜3のアルコキシ基、置換基を有していても良いフェニル基を表し、Xは水酸基、または加水分解性基を表し、nは17〜24のいずれかの整数を表す。)で表される有機ケイ素化合物である。有機溶媒中で、上記有機ケイ素化合物及び前記有機ケイ素化合物と相互作用し得る化合物と水とを混合して、有機薄膜形成用溶液を作製し、当該有機薄膜形成用溶液を基板と接触させることにより、有機薄膜を形成することができる。
申请公布号 JPWO2014006885(A1) 申请公布日期 2016.06.02
申请号 JP20140523600 申请日期 2013.07.02
申请人 日本曹達株式会社 发明人 高橋 敏明;肥高 友也;浅沼 大右
分类号 C07F7/18;C09K3/18 主分类号 C07F7/18
代理机构 代理人
主权项
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