| 发明名称 |
非化学增幅型抗蚀剂组成物、非化学增幅型抗蚀剂膜、图案形成方法及电子装置的制造方法 |
| 摘要 |
明提供一种孤立线图案或孤立空间图案的解析力优异的非化学增幅型抗蚀剂组成物、以及使用其的非化学增幅型抗蚀剂膜、图案形成方法及电子装置的制造方法。所述非化学增幅型抗蚀剂组成物含有具有金属盐结构的树脂（Ab）。 |
| 申请公布号 |
TW201612629 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW104128026 |
申请日期 |
2015.08.27 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
平野修史 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08L33/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
叶璟宗;郑婷文;詹富闵 |
| 主权项 |
一种非化学增幅型抗蚀剂组成物，包括：具有金属盐结构的树脂（Ab）。 |
| 地址 |
日本 |
