ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY

摘要

EUV 마이크로리소그래피용 조명 시스템은 0.01 ㎟보다 높은 에텐듀(etendue)를 갖는 EUV 조명 광(10)을 생성하는 EUV 광원(3)을 포함한다. EUV 광원(3)은 특히 펄스 시퀀스 주파수를 갖는 특히 EUV 광 펄스의 시퀀스를 생성한다. 조명 시스템의 조명 광학장치가 광원(3)으로부터 오브젝트 필드까지 조명 광(10)을 안내하기 위해 사용된다. 조명 시스템의 적어도 하나의 광 변조 부품(25)은 바람직하게는 펄스 시퀀스 주파수와 동기하여 변조 가능하다. 그 결과가 오브젝트 필드 조명의 균질성이 향상된 조명 시스템이다.