| 发明名称 | 用于低辐射涂层的钛镍铌合金阻挡层 | ||
| 摘要 | 一种用于形成低辐射涂层的方法，包括：控制薄导电银层上所形成的阻挡层的成分。该阻挡层结构包含钛、镍、铌的三元合金，与二元合金阻挡层相比，整个性能被提高。其中，钛的重量百分比可以是5－15wt％，镍的重量百分比可以是30－50wt％，铌的重量百分比可以是40－60wt％。 | ||
| 申请公布号 | CN105431392A | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201480028165.8 | 申请日期 | 2014.03.12 |
| 申请人 | 分子间公司;葛迪恩实业公司 | 发明人 | G·丁;B·博伊斯;J·成;M·伊姆兰;J·劳;M·H·乐;D·施瓦格特;Z-W·孙;Y·王;Y·许;G·张 |
| 分类号 | C03C17/36(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 陈英俊 |
| 主权项 | 一种用于形成低辐射涂层的方法，包括：提供透明基板；在所述透明基板上形成第一层，其中，所述第一层含有银，其中，所述第一层被用作为红外反射层；在所述第一层上形成第二层，其中，所述第二层被用作为阻挡层，其中，所述第二层包含钛、镍、铌，其中，所述钛的重量百分比为5－15wt％，其中，所述镍的重量百分比为30－50wt％，其中，所述铌的重量百分比为40－60wt％。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||