发明名称 |
LED芯片及制造方法 |
摘要 |
本发明的一方面提出了一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,位于堆叠之上的钝化层;形成于钝化层中的处于相应于第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于钝化层中的处于相应于第二台阶面的区域内的N型电极,其中,P型电极的面积与N型电极的面积之比或N型电极的面积与P型电极的面积之比处于0.7-1.2的范围内。本发明还提出了改进的两种LED芯片和两种制作LED芯片的方法。根据本发明的LED芯片和制造方法,解决了现有技术中的LED芯片在SMT技术的应用中容易产生虚焊、偏位、短路等不足。 |
申请公布号 |
CN103066181B |
申请公布日期 |
2016.03.09 |
申请号 |
CN201210587583.3 |
申请日期 |
2012.12.28 |
申请人 |
北京半导体照明科技促进中心 |
发明人 |
崔成强;梁润园;韦嘉;袁长安;张 |
分类号 |
H01L33/38(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
代理机构 |
北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 |
代理人 |
吴大建;刘华联 |
主权项 |
一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,包括位于最底部的基底、相邻地位于所述基底之上的N型材料层、相邻地位于所述N型材料层之上的发光层,以及相邻地位于所述发光层之上的P型材料层,其中所述P型材料层位于所述堆叠的第一台阶面上,所述N型材料层的外侧部分位于所述堆叠的第二台阶面上,所述第一台阶面高于所述第二台阶面;位于所述堆叠之上的钝化层;形成于所述钝化层中的处于相应于所述第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于所述钝化层中的处于相应于所述第二台阶面的区域内的N型电极,其特征在于,所述P型电极与所述N型电极之间的所述钝化层的面积与整个电极面的面积之比处于1/3‑1/2的范围内。 |
地址 |
100080 北京市海淀区清华东路35号半导体所5号办公楼5层 |