发明名称 INSPECTION APPARATUS AND METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC PROCESSING CELL AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 본 발명은 웨이퍼의 격자와 같은 기판(W)의 타겟(30)의 특성을 결정한다. 검사 장치는 높은 개구수 대물 렌즈(L3)의 퓨필 평면에 2 이상의 조명 빔들(716, 716', 716'', 716''')을 갖는 조명 소스(702, 710)를 갖는다. 기판 및 타겟은 기판의 평면에 대하여 상이한 입사각으로부터 대물 렌즈를 통해 조명된다. 4 개의 조명 빔들의 경우, 쿼드 웨지 광학 디바이스(QW)가 기판으로부터 산란된 방사선의 회절 차수들을 별개로 전향하기 위해 사용되며, 2 이상의 조명 빔들로부터 회절 차수들을 분리시킨다. 예를 들어, 4 개의 회절 차수들이 4 개의 입사 방향에 대해 분리된다. 다중모드 섬유(MF)의 캡처 후, 파장의 함수로서 별개로 전향된 0차 회절 차수들의 세기를 측정하기 위해 분광계들(S1 내지 S4)이 사용된다. 이후, 이는 타겟의 특성을 결정하는 데 사용될 수 있다.
申请公布号 KR20160027185(A) 申请公布日期 2016.03.09
申请号 KR20167002988 申请日期 2014.06.13
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 QUINTANILHA RICHARD
分类号 G03F7/20;G01N21/956 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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