发明名称 |
去除低浓度低分子量挥发性有机物的碳化物衍生碳吸附剂及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种去除低浓度低分子量挥发性有机物的碳化物衍生碳吸附剂及其制备方法,属于气体净化处理技术领域。所述制备方法先将商用碳化物在惰性气氛中升温至600~900℃,再改通氯气2~4小时进行高温蚀刻,流量为30-50ml/min。然后,再次通惰性气氛冷却至室温,得到碳化物衍生碳初级产品。然后将所得碳化物衍生碳初级产品加入到氧化性溶液中进行浸渍处理6~12小时。然后,用去离子水洗涤至中性,在105℃温度下干燥3~8小时,即得到碳化物衍生碳吸附剂最终产品。与现有商用活性炭相比,本发明设计的吸附剂在高空速下能高效吸附低浓度低分子量VOCs,吸附容量大,使用寿命长,适用于建筑物室内、密闭舱室和其他有限空间内空气净化处理。 |
申请公布号 |
CN103861561B |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201410111231.X |
申请日期 |
2014.03.24 |
申请人 |
北京航空航天大学 |
发明人 |
朱天乐;王红妍;纳宏波 |
分类号 |
B01J20/20(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;B01D53/02(2006.01)I |
主分类号 |
B01J20/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京永创新实专利事务所 11121 |
代理人 |
姜荣丽 |
主权项 |
一种去除低浓度低分子量挥发性有机物的碳化物衍生碳吸附剂的制备方法,其特征在于有如下制备步骤:(1)先将商用碳化物在惰性气氛中升温至600~900℃,再改通氯气2~4小时进行高温蚀刻,蚀刻温度为700~800℃,氯气流量为30‑50ml/min;然后,再次通惰性气氛冷却至室温,得到碳化物衍生碳初级产品;所述的商用碳化物为TiC、VC和NbC中的任意一种;(2)将步骤(1)所得碳化物衍生碳初级产品加入氧化性溶液中进行浸渍处理6~12小时;然后,用去离子水洗涤至中性,在105℃温度下干燥3~8小时,即得到碳化物衍生碳吸附剂最终产品;所述的氧化性溶液是摩尔浓度为1~9mol/L的HNO<sub>3</sub>,或者质量百分比浓度为5~30%的H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>;上述制备得到的吸附剂比表面积在1400m<sup>2</sup>/g以上,孔容为0.4~0.8cm<sup>3</sup>/g,微孔孔容为0.3~0.6cm<sup>3</sup>/g,孔径0.7~2nm,吸附剂表面含有含氧官能团。 |
地址 |
100191 北京市海淀区学院路37号 |