在具有极小尺寸的结构中实现硅化物、锗化物或锗硅化物形成的工艺和放大工艺窗口的方法

摘要

提供用于在极小结构中形成硅化物、锗化物或锗硅化物的技术。在一个方面中，提供一种用于在具有极小尺寸的三维硅、锗或硅锗结构中形成硅化物、锗化物或锗硅化物的方法。该方法包括以下步骤。将至少一种元素注入到该结构中。将至少一种金属沉积到该结构上。该结构被退火以在硅、锗或硅锗内散布金属以形成硅化物、锗化物或锗硅化物，其中注入的元素用于防止硅化物、锗化物或锗硅化物的形态劣化。注入的元素可以包括碳、氟和硅中的至少一种。

主权项

一种用于在三维硅、锗或硅锗结构中形成硅化物、锗化物或锗硅化物的方法，所述结构包括纳米线或膜，其中所述纳米线具有小于或等于10纳米的截面直径，所述膜具有小于或等于10纳米的厚度，所述方法包括以下步骤：将至少一种元素注入到所述结构中；将至少一种金属沉积到所述结构上；以及对所述结构进行退火以在所述硅、锗或硅锗内散布所述金属以形成所述硅化物、锗化物或锗硅化物，其中注入的元素用于防止所述硅化物、锗化物或锗硅化物的形态劣化。