聚脲基材，含此聚脲基材之抛光及研磨介质，其形成及使用方法

摘要

明揭示一种适于研磨介质及抛光介质之聚脲基材、包括该聚脲基材之介质、及形成与使用该聚脲基材与介质之方法。使用一或多个二级聚胺形成聚脲基材，其允许较慢之反应速率并制造具有所需性质之材料。

主权项

一种聚脲基材，其用于研磨或抛光一基板之表面，该聚脲基材包含：聚脲，其中该聚脲系由一或多个具有通式R[-NH-R’]n之二级聚胺形成，其中n大于或等于2及其中R不为H且R’不为H；以及聚异氰酸酯、聚异氰酸酯衍生物、及聚异氰酸酯产物中之一或多者。