发明名称 暂时接着用积层体、暂时接着用积层体的制造方法以及带有元件晶圆的积层体
摘要 明提供一种暂时接着用积层体、暂时接着用积层体的制造方法以及带有元件晶圆的积层体,所述暂时接着用积层体的与元件晶圆或支撑体的接着面的平坦性良好,可将元件晶圆与支撑体稳定地暂时接着,并且可容易地解除元件晶圆与支撑体的暂时接着。所述暂时接着用积层体具有:含有选自聚苯乙烯系弹性体、聚酯系弹性体、聚烯烃系弹性体、聚胺基甲酸酯系弹性体、聚醯胺系弹性体、聚丙烯酸系弹性体、矽酮系弹性体、聚醯亚胺系弹性体、聚醚醚酮、聚苯硫醚、聚苯醚及聚醚碸中的至少一种的膜;以及位于膜的至少一个表面上的含有脱模剂的脱模层,其中所述脱模剂含有选自氟原子及矽原子中的至少一种。
申请公布号 TW201601918 申请公布日期 2016.01.16
申请号 TW104117288 申请日期 2015.05.29
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 岩井悠;小山一郎;沢野充;加持义贵;中村敦
分类号 B32B27/30(2006.01);B32B27/36(2006.01);B32B27/18(2006.01);H01L21/683(2006.01) 主分类号 B32B27/30(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗;郑婷文;詹富闵
主权项 一种暂时接着用积层体,其是用于将元件晶圆的元件面与支撑体以能够剥离的方式暂时接着,并且具有: 含有选自聚苯乙烯系弹性体、聚酯系弹性体、聚烯烃系弹性体、聚胺基甲酸酯系弹性体、聚醯胺系弹性体、聚丙烯酸系弹性体、矽酮系弹性体、聚醯亚胺系弹性体、聚醚醚酮、聚苯硫醚、聚苯醚及聚醚碸中的至少一种的膜;以及 位于所述膜的至少一个表面上的含有脱模剂的脱模层,其中所述脱模剂含有选自氟原子及矽原子中的至少一种。
地址 日本