| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung hochwertiger Beschichtungen aus Pulvern durch Einblasen des Pulvers in einen als Plasmastrahl (3) arbeitenden Gasstrahl. Um die Fliessfähigkeit des Beschichtungspulvers zu optimieren, wird ihm grobkörniges Pulver mit einer Korngrösse zwischen 20 µm und 200 µm beigemischt. Die Leistung des Plasmastrahls (3) und die Fördermenge des Beschichtungspulvers sind so bemessen, dass das grobkörnige Pulver beim Beschichtungsvorgang weggeblasen wird, ohne in der Beschichtung aufzugehen. Auf diese Weise wird die Agglomerationsbildung unterdrückt und die Bildung von Anbackungen weitgehend vermieden. |
