发明名称 光学性能恢复设备、恢复方法以及用于该设备的光学系统
摘要 本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减,其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式,可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现:产生具有活性能量存在的近真空区,以激发碳的氧化反应,其中所述近真空区面对所述光学系统的所述光线表面;在所述近真空区产生负离子或基团,例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH<sup>-</sup>离子、臭氧、O<sub>2</sub><sup>-</sup>离子、O<sup>-</sup>基;并通过沉积的碳与负离子或基团进行反应,消除或减少积聚在所述照明表面上的积聚的碳。
申请公布号 CN101656187A 申请公布日期 2010.02.24
申请号 CN200910170895.2 申请日期 2004.05.31
申请人 三菱重工业株式会社 发明人 坂井智嗣;鹤我薰典;山越英男;栗林志头真;团野实;二见博;山崎纪子
分类号 H01J61/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I 主分类号 H01J61/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 刘晓峰
主权项 1.一种包括设置在暴露于真空紫外线或等离子线环境的氟化合物的光学系统,所述真空紫外线或等离子线具有比所述光学系统的基本材料的吸收波长高的光子能量,其中具有2-20nm膜厚度的SiO2或其它金属氧化物的保护膜至少形成在所述光学系统的光线照射侧面(内侧面),以防止氟原子从所述光学系统的表面剥离。
地址 日本东京