发明名称 曝光装置及其用以制作彩色滤光片的方法
摘要 本发明公开了一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法,包括有下列步骤:首先,提供一基板,之后,再提供一光致抗蚀剂涂覆器,以在此基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区,接着,提供一曝光光置,该曝光装置含有一光源,用来产生一曝光用的光线,另含有一具有预定图案的光掩模,置于此光源与此基板之间。然后,对此多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序,通过此基板与此光掩模的一相对性移动,使此光掩模上的预定图案被转写成此基板上的一条状曝光图案。
申请公布号 CN100449404C 申请公布日期 2009.01.07
申请号 CN03103430.6 申请日期 2003.01.30
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 丁景隆;温俊斌
分类号 G03F7/16(2006.01);G03F7/22(2006.01) 主分类号 G03F7/16(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陈小雯;肖鹂
主权项 1.一种制作彩色滤光片的方法,包括有下列步骤:提供一基板;提供一光致抗蚀剂涂覆器,以在该基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区;提供一光源,用来产生一曝光用的光线;提供一具有预定图案的光掩模,置于该光源与该基板之间;以及在对该多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序时,通过该基板与该光掩模的一相对性移动,使该光掩模上的预定图案被转写成该基板上的一条状曝光图案。
地址 台湾省台南县