发明名称 |
曝光装置及其用以制作彩色滤光片的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法,包括有下列步骤:首先,提供一基板,之后,再提供一光致抗蚀剂涂覆器,以在此基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区,接着,提供一曝光光置,该曝光装置含有一光源,用来产生一曝光用的光线,另含有一具有预定图案的光掩模,置于此光源与此基板之间。然后,对此多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序,通过此基板与此光掩模的一相对性移动,使此光掩模上的预定图案被转写成此基板上的一条状曝光图案。 |
申请公布号 |
CN100449404C |
申请公布日期 |
2009.01.07 |
申请号 |
CN03103430.6 |
申请日期 |
2003.01.30 |
申请人 |
奇美电子股份有限公司 |
发明人 |
丁景隆;温俊斌 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01);G03F7/22(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陈小雯;肖鹂 |
主权项 |
1.一种制作彩色滤光片的方法,包括有下列步骤:提供一基板;提供一光致抗蚀剂涂覆器,以在该基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区;提供一光源,用来产生一曝光用的光线;提供一具有预定图案的光掩模,置于该光源与该基板之间;以及在对该多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序时,通过该基板与该光掩模的一相对性移动,使该光掩模上的预定图案被转写成该基板上的一条状曝光图案。 |
地址 |
台湾省台南县 |