发明名称 |
使用微X射线萤光以用于精确判定薄基板上之小特征之厚度及/或元素组成之方法;METHOD FOR ACCURATELY DETERMINING THE THICKNESS AND/OR ELEMENTAL COMPOSITION OF SMALL FEATURES ON THIN-SUBSTRATES USING MICRO-XRF |
摘要 |
一种用于X射线萤光(XRF)分析之方法,其包含:将一X射线束导引至一样本上;及在其中该样本包含经形成于一基板上之一或多个第一层之一参考量测中,且在除该等第一层以外之一或多个第二层经形成于该基板上之后于一目标量测中,量测自该样本激发之一XRF信号,以分别产生一参考XRF光谱及一目标XRF光谱。使用该参考XRF光谱来降低该等第一层对该目标XRF光谱之一贡献。使用其中该等第一层之该贡献已被降低之该目标XRF光谱来估计该等第二层之至少一者之一参数。 |
申请公布号 |
TW201546446 |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
TW104115304 |
申请日期 |
2015.05.13 |
申请人 |
乔丹菲利半导体有限公司 JORDAN VALLEY SEMICONDUCTORS LTD. |
发明人 |
马瑟 艾萨克 MAZOR, ISAAC;艾乔许 佛德 ATRASH, FOUAD;托卡 艾力克斯 TOKAR, ALEX;奥思图斯基 奥雷加 OSTROVSKY, OLGA |
分类号 |
G01N23/223(2006.01);G01B15/02(2006.01) |
主分类号 |
G01N23/223(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
以色列 IL |