一种单层电容器用BaTiO₃陶瓷基片的表面处理方法

摘要

本发明公开一种单层电容器用BaTiO3陶瓷基片的表面处理方法，包括如下步骤：1）研磨盘的选择；（2）研磨液的选择；（3）行星架的选择；（4）先研磨后抛光，研磨速率的控制为研磨速率为8～10μm/min，抛光速率为3～4μm/min，配种控制在3～5kg，研磨时间段控制在30min内；（5）以去离子水、酒精、丙酮和清洗剂中的一种或集中混合均匀，在40～50℃，功率250～300W的范围内超声清洗30min；（6）表面处理后，对基片进行热处理，条件为500～600℃，保温时间2hr；该回收式切削机械能够保护工厂环境，防止切削液污染场地。

主权项

一种单层电容器用BaTiO3陶瓷基片的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）研磨盘的选择：用铜盘、铝盘、铸铁盘、陶瓷盘、金丝绒盘和羊绒盘中的一种或几种；（2）研磨液的选择：磨料粒度选择为2～20μm的金刚石、碳化硅、氧化铝、氧化硅和氧化铈中的一种或几种，其和去离子水、分散剂、润滑剂、表面活性剂的配比为1:10: 0.002 :0.01: 0.002，也可以是和去离子水、分散剂、润滑剂、表面活性剂中的一种或几种混合均匀液；（3）行星架的选择：以FR‑4玻璃纤维板，环氧树脂，塑料中的一种或几种为母板制作行星架，其厚度大于或等于基片厚度；（4）先研磨后抛光，研磨速率的控制为研磨速率为8～10μm/min，抛光速率为3～4μm/min，配种控制在3～5kg，研磨时间段控制在30min内；（5）以去离子水、酒精、丙酮和清洗剂中的一种或集中混合均匀，在40～50℃，功率250～300W的范围内超声清洗30min；（6）表面处理后，对基片进行热处理，条件为500～600℃，保温时间2hr。