一种二氧化锡量子点的低温制备方法

摘要

本发明公开一种粒径尺寸在2～4nm的高分散性、高结晶性氧化锡量子点的低温制备方法-溶解氧化法。该方法利用HCl与H₂O形成的Cl^--H₃O⁺的双电层作用以及溶液中HNO₃的氧化作用制备氧化锡量子点，该方法制备的氧化锡量子点粒径小、分散性能和结晶性能好；且不需要高温煅烧，具有工艺简单、成本低、制备周期短等特点。

主权项

一种二氧化锡量子点的低温制备方法，其特征在于：包括以下操作步骤，(1)常温下利用HCl水溶液溶解Sn至黑色胶体状，获得A溶液，其中，HCl与Sn的摩尔比为6～10:1，去离子水与Sn的摩尔比为15～40:1；(2)向A溶液中添加5～50g/L的PVA溶液，搅拌后静置老化获得B溶液，其中，PVA与Sn的质量比为0.13～0.42:1；(3)向B溶液中加入HNO₃溶液，再经过搅拌、热处理、离心分离后即得到超细氧化锡量子点固体；其中，HNO₃与Sn的摩尔比为8～16:1。