| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Elements, sowie ein reflektives optisches Element. Ein erfindungsgemäßes Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage oder für eine Maskeninspektionsanlage, wobei das reflektive optische Element eine optische Wirkfläche (100a, 200a, 300a) aufweist, weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (101, 201, 301), Aufbringen eines Reflexionsschichtsystems (110, 210, 310), und Aufbringen wenigstens einer Barriereschicht (120, 121d, 312d), welche ein Eindringen von Fremdatomen über die optische Wirkfläche (100a, 200a, 300a) in das Reflexionsschichtsystem (110, 210, 310) im Vergleich zu einem analogen Aufbau ohne die Barriereschicht (120, 212d, 312d) reduziert, wobei der Schritt des Aufbringens der Barriereschicht (120, 212d, 312d) durch Atomlagenabscheidung erfolgt. |
