发明名称 使用以模型为基础的控制处理基材的方法及设备
摘要
申请公布号 TWI506670 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW101125399 申请日期 2012.07.13
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 波托斯凯思布莱恩;雷恩约翰W;格勒戈尔玛路司柯;马利尼尔;莱斯麦可R;明柯维奇艾力克斯;李宏宾;迪日诺狄米奇A
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种控制具一处理容积的一处理腔室的方法,该方法包含以下步骤:预先决定该处理容积之一压力与一排气阀之一位置间随一制程参数变化的一关系,该排气阀设置在该处理容积与一排气系统之间;将该处理腔室设定成一第一状态,该第一状态具有该处理容积的一第一压力和该制程参数的一第一值,其中该排气阀依据该预定关系设为一第一位置,以在该第一值下产生该处理容积的该第一压力;当该处理腔室从该第一状态变成一第二状态时,该第二状态具有一第二压力和该制程参数的一第二值,决定一压力控制轮廓,以控制该处理容积的该压力,其中该压力控制轮廓由一以模型为基础的控制演算法决定,该控制演算法使用该第一压力、该第二压力、该第一值、该第二值和该第一位置做为多个输入参数;以及藉由改变该排气阀的该位置,同时使该处理腔室从该第一状态变成该第二状态,以应用该压力控制轮廓而控制该处理容积的该压力。
地址 美国