METHOD FOR PRODUCING STRUCTURED LAYERS HAVING A PHOTONIC BAND STRUCTURE, AND ARRANGEMENT HAVING A LAYER OF THIS TYPE

摘要

Verfahren zur Herstellung strukturierter Schichten mit einer photonischen Bandstruktur, das mindestens die Schritte: Generierung eines zweidimensionalen Musters, Dichtereduktion des zweidimensionalen Musters durch Einführung einer unteren Signalschwelle, Berechnung der Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Musters und Auswahl eines Ausschnitts aus dem zweidimensionalen Muster als eine Kachel aufweist. Das Verfahren ist gekennzeichnet dadurch, dass die Generierung des zweidimensionalen Musters durch Überlagerung von ausgewählten ebenen Wellen erfolgt, wobei sich die Auswahl der ebenen Wellen durch angestrebte Periodizitäten und Symmetrien im Fourierraum ergibt. Die Längen der Abstände nächster Nachbarn in den Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Musters werden durch Wellenlängen von Licht, mit denen Wechselwirkungen mit der strukturierten Schicht mit photonischer Bandstruktur beabsichtigt sind bestimmt. Die Kachel mit den Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Muster genügt dabei einer Erzeugung eines diskreten Fourierspektrums. Die Strukturierung einer Schicht mit einem schichtenstrukturierenden Verfahren erfolgt unter Verwendung der Koordinaten der Schwerpunkte von Motiven des zweidimensionalen Musters in der Kachel und der Basisvektoren der Kachel zur Parkettierung.