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发明名称
具有气隙的结构的形成方法;METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING AIR GAP
摘要
一种具有气隙的结构的形成方法,包括下列步骤。在基底的图案区中形成多个图案。在基底上形成牺牲层,且牺牲层的上表面低于图案的上表面,而暴露出图案的多个上部。形成覆盖牺牲层及图案的上部的硬罩幕层。对硬罩幕层进行回蚀刻制程,以暴露出图案区以外的牺牲层,且留在图案区中的硬罩幕层封住图案的上部之间的开口。移除牺牲层,而在相邻两个图案之间形成气隙。
申请公布号
TW201537675
申请公布日期
2015.10.01
申请号
TW103110712
申请日期
2014.03.21
申请人
力晶科技股份有限公司 POWERCHIP TECHNOLOGY CORPORATION
发明人
叶明鑫 YEH, MING HSIN;戴炘 TAI, HSIN;吴展村 WU, CHAN TSUN
分类号
H01L21/762(2006.01)
主分类号
H01L21/762(2006.01)
代理机构
代理人
叶璟宗詹东颖刘亚君
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 TW
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