发明名称 |
滤色器、基板、电光装置、电子仪器、成膜方法和装置 |
摘要 |
提供包含具有充分的遮光性的遮光区域和没有混色的透过区域、没有像素缺陷及色调模糊的对比度高的滤色器。本发明的滤色器(1000)包含像素区域(100)和着落精度试验用区域(200)。像素区域(100)包括遮光区域(20)和由遮光区域分割的透过区域(30)。在遮光区域(20)上设置了第1遮光层(22)。透过区域(30)设置了色要素(32)。着落精度试验用区域(200)位于像素区域(20)以外,包含第2遮光层(122)和用以至少覆盖第2遮光区域(122)而设置的着落精度试验用层(26)。在着落精度试验用区域(200)中,设置了由第2遮光区域(122)分割的评价区域。 |
申请公布号 |
CN100516944C |
申请公布日期 |
2009.07.22 |
申请号 |
CN200710127023.9 |
申请日期 |
2002.06.24 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
木口浩史;片上悟;伊藤达也;有贺久 |
分类号 |
G02B5/20(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I;H01L27/148(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张志醒 |
主权项 |
1.一种成膜方法,其特征在于:包括在位于膜形成区域以外的着落精度试验用区域中形成着落精度确认用图形的工序、在上述着落精度试验用区域中形成用以至少覆盖上述着落精度确认用图形的着落精度试验用层的工序、通过将液滴材料喷出到与上述着落精度试验用层上的上述着落精度确认用图形位置对应的位置而形成凸状层的工序和根据上述着落精度确认用图形和上述凸状层的相对位置评价着落精度的工序。 |
地址 |
日本东京都 |