工艺设备及其输送系统以及压力控制阀的保护方法

摘要

一种工艺设备，包括腔体、泵浦以及输送系统，其中输送系统设在腔体及泵浦之间。此外，输送系统包括管线、压力控制阀及遮挡器。管线具有输入端及输出端，其中输入端连接于腔体，而输出端连接于泵浦，且泵浦适于经由管线抽取腔体内的流体。压力控制阀设在管线上，且位于输入端及输出端之间，其中压力控制阀具有阀片，其适于调节管线内的流体流量。遮挡器设在管线上，且位于输入端与压力控制阀之间，其中遮挡器具有挡片，其适于切换于预设位置及遮挡位置之间。当挡片位于遮挡位置时，挡片能够让管线内的流体通过，并遮挡飘散至管线内的流体中的某些液体粒子。

主权项

1.一种用于半导体领域的工艺设备，包括：腔体；泵浦；输送系统，设在该腔体及该泵浦之间，包括：管线，具有输入端及输出端，其中该输入端连接于该腔体，而该输出端连接于该泵浦，且该泵浦适于经由该管线抽取该腔体内的流体；压力控制阀，设在该管线上，且位于该输入端及该输出端之间，其中该压力控制阀具有阀片，其适于调节该管线内的流体流量；以及遮挡器，设在该管线上，且位于该输入端与该压力控制阀之间，其中该遮挡器具有挡片，其适于切换于预设位置及遮挡位置之间，当该挡片位于该遮挡位置时，该挡片能够让该管线内的流体通过，并遮挡飘散至该管线内的流体中的某些液体粒子。