Method for forming isolation layer of semiconductor device,申请号KR20030040248-传众专利搜索

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发明名称	Method for forming isolation layer of semiconductor device
摘要
申请公布号	KR100984853(B1)	申请公布日期	2010.10.04
申请号	KR20030040248	申请日期	2003.06.20
申请人		发明人
分类号	H01L21/762	主分类号	H01L21/762
代理机构		代理人
主权项
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