| 发明名称 |
具有径向交变式构槽段构形之化学机械研磨垫及使用该化学机械研磨垫的研磨方法 |
| 摘要 |
一种研磨垫(104)，其具有环状研磨轨迹(122)且包括复数个各自横越该研磨轨迹之构槽(148)。每个构槽包括复数个流动控制段(CS1－CS3)以及至少两个位于研磨轨迹中的斜率不连续处(D1，D2)。 |
| 申请公布号 |
TWI363672 |
申请公布日期 |
2012.05.11 |
| 申请号 |
TW095100554 |
申请日期 |
2006.01.06 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股公司 美国 |
发明人 |
艾尔穆夫迪 凯罗琳娜Ｌ;汉卓恩 杰弗瑞Ｊ;莫唐尼 葛列格里Ｐ |
| 分类号 |
B24B37/04;B24D13/14 |
主分类号 |
B24B37/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
