基板之处理方法及被涂布于光阻膜表面之上层膜剂用之预湿溶剂

摘要

本发明系在藉由旋转涂布法而在基板上之光阻膜表面涂布上层膜剂来形成光阻膜之上层膜之前，于光阻膜之表面，涂布上层膜剂用之预湿溶剂。该预湿溶剂系含有由碳数1~10之单元或二元之醇类、具有碳数1~8之可有卤素作为取代基之烷基的醚类以及碳数7~11之烃类中选出之一种以上的化合物。如果藉由本发明，则可以达到上层膜剂之省液化。